中文

制造

首頁 现有產品與技術 制造類EDA
FabLitho | FAR

FabLitho

先進的光刻工藝建模和仿真工具

光刻工藝建模平台 光刻膠模型 弱點圖形優化

FabLitho 是一款國內領先的光刻工藝建模和仿真工具，可針對多種投影設備建立包含鏡頭畸變的光學模型，並通過高自由度的建模方法模擬光刻膠在不同條件下的性能表現。

  • 適用于先進工藝節點。

  • 覆盖半導體芯片制造、平板顯示制造、先進芯片封裝等應用領域。

  • 已在國內部分先進 Fab 中成功驗證。

  • 通過嚴格仿真的方法獲取不同工藝參數下工藝窗口數值，有效減少晶圓曝光和人工量測的需求，大幅提升工藝開發效率。

  • 支持與其他工藝仿真工具結合，應用于掩膜版關鍵圖形的工藝仿真優化，降低實際生產中圖形失效的風險。

下載现有產品單頁

现有產品亮點

  • 業界標准的光學模型

    支持掩模版三維效應、
    FreeForm 光源

  • 光刻設備模型

    支持投影倍率、入射角度、
    鏡頭畸變、瓊斯矩陣

  • 業界標准的經驗模型

    包含 Dill 模型，曝光後烘烤擴散和化學反應
    模型，曝光後顯影模型，光刻膠收縮效應

  • 多種曝光工藝

    支持單次曝光工藝、二次曝光工藝(LLE)
    和多焦深成像工藝(MFI)

  • 光刻膠模型校准功能

    內建多參數優化引擎，可以根據晶圓數據
    和光學參數擬合光刻膠模型

  • 靈活的數據可視化界面

    支持仿真結果
    和外部數據的可視化

  • 豐富的二次開發接口

    內置C和Python開發接口，
    CVS和JSON數據交互格式

  • 多格式輸出

    支持輸出 TXT、GDSII、STL
    文件格式

现有產品應用

  • 光刻工藝的工藝窗口
    仿真和參數優化

  • 關鍵圖形
    仿真和優化

  • OPC模型參數
    開發輔助

  • 光刻膠和光刻設備
    參數評估和優化

聯系我們官网 TOP

登錄

忘記密碼
登錄
暫無概倫賬號？立即注冊

獲取驗證碼

 
登錄
暫無概倫賬號？立即注冊
友情链接：上海赫腾精细化工有限公司 | 康命源（贵州）科技发展有限公司 | 济南彬盛模型制造有限公司 | 江都区凯德试验机械有限公司 | 北京五洲泡沫 | 杭州一码云科技有限公司 | 青岛富盛德塑胶有限公司 | 广东昭辉光电科技有限公司 | 山西成功投资集团有限公司 | 东莞洁枫表面处理技术有限公司